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            CVD化學氣相沉積

            Chemical Vapor Deposition


            金剛石(Diamand),常稱鉆石,其性能優異,應用廣泛。

            人造金剛石技術包括高溫高壓(HTHP)法和化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition 簡稱CVD)法。


                 CVD金剛石沉積方法包括:熱絲 CVD 法(Hot Filament CVD,簡稱HFCVD)、

                            微波等離子體 CVD 法(MWPCVD)、

                                    直流等離子體噴射 CVD 法(DCPJCVD) 等。

                 MWPCVD法設備復雜,成本高,尺寸受限,

            但其膜層質量優異,一般為透明色,

            主要應用于光學、電子、人造鉆石等高端領域。        

                 HFCVD法由于設備較簡單、成本較低廉、可進行大規模工業化生產,

            其膜層質量一般,呈黑色,主要應用其硬度及耐磨性。


                      鉆科技具有HFCVD和MWPCVD兩種制備設備,并熟練掌握其制備技術。


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            采用熱絲CVD(即HFCVD)設備制備金剛石涂層產品,

            其方法是采用金屬絲作為熱源,通入活性氣體,

            在真空條件下當熱絲溫度達到2000℃左右時,

            含氫氣體在高溫下發生熱分解,

            在工件基底上先沉積生長一層微米晶金剛石,增強膜層和基底結合力,

            然后繼續沉積生長一層納米晶金剛石,改善圖層表面結構,降低表面粗糙度。



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